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《集成電路知識產權條約》概述
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隨著美國、日本及許多西歐國家半導體芯片保護法的先后制定由世界知識產權組織主持，在1989年5月的華盛頓外交會議上，締結了一項《集成電路知識產權條約》，以期促進半導體芯片的國際保護。這個條約所保護的是“半導體芯片上的電路設計”，實質上相當于美國芯片法中所稱的“掩膜作品”。受保護的條件是“獨創性”與創作之時在創作者與制作者中顯示出的“非一般性”或“非通用性”。

這個條約最關鍵的內容，是要求成員國建立起對芯片掩膜的“注冊保護制”。但這種注冊申請案無需具有新穎性。就是說，芯片掩膜的所有人在其產品投入商業領域后兩年之內提交注冊申請就可以。成員國對于取得注冊的芯片掩膜至少應提供10年保護期。

條約規定了國民待遇原則，這就是：各成員國對于其他成員國的國民或居民，只能要求像本國國民一樣地履行手續，并給予同樣的保護。這種國民待遇，也與《保護工業產權巴黎公約》相似，而不同與諸版權公約中的國民待遇。

遺憾的是，至今尚沒有任何一個發達國家在該條約上簽字，這一公約也尚未生效。


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